@浮帝:
光(guang)(guang)刻機清洗 多次曝(pu)光(guang)(guang),意味著每一(yi)次光(guang)(guang)刻機處理都要(yao)經過一(yi)次光(guang)(guang)刻機清洗環(huan)節。 瀚博高新:成都拓(tuo)維公(gong)司及其子(zi)公(gong)司生(sheng)產和(he)制造Open Mask、CVD Mask和(he)FMM三類OLED制程工(gong)藝(yi)用掩膜版,同時(shi)提供OpenMask清洗服(fu)務(wu)業務(wu),公(gong)司擁有前(qian)述產品和(he)服(fu)務(wu)的相應(ying)技術和(he)知識產權(quan)。 &nb
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