@韭菜斌:
上(shang)海微電(dian)子全(quan)(quan)新(xin)一(yi)(yi)代光(guang)刻(ke)機(ji)預計在(zai)2021年年底或2022年初量產下線?,其采(cai)(cai)用(yong)與ASML DUV光(guang)刻(ke)機(ji)相同的光(guang)源(yuan)(yuan)技術,不過(guo)是國產的。 這種光(guang)源(yuan)(yuan)其實是科益虹源(yuan)(yuan)研發的,能夠用(yong)在(zai)DUV設備(bei)上(shang) 。也就是說,上(shang)海微電(dian)子的全(quan)(quan)新(xin)一(yi)(yi)代光(guang)刻(ke)機(ji)能夠用(yong)于生產制(zhi)造28nm到10nm之間的芯片,甚至(zhi)可以采(cai)(cai)用(yong)多層(ceng)曝光(guang)技
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