@哈哈大王:
光刻機造(zao)芯片過程(cheng)中,需要清(qing)洗,清(qing)洗過程(cheng)中需要用到(dao)超(chao)(chao)純(chun)(chun)水,臺積電的3nm工廠(chang)一天(tian)用水量就高達(da)13萬噸,約等于(yu)7500輛(liang)拉水車(che)的容量,目的是為了生(sheng)(sheng)產超(chao)(chao)純(chun)(chun)水用于(yu)整個芯片制作過程(cheng)中的濕法清(qing)洗。目前超(chao)(chao)純(chun)(chun)水的生(sheng)(sheng)產設備基本都被(bei)國外(wai)壟斷超(chao)(chao)純(chun)(chun)水的市(shi)場規模有300億人民幣以上; 而沃(wo)頓科(ke)技(ji)一直在自(zi)主研發超(chao)(chao)純(chun)(chun)水
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