特別提示:下(xia)文涉及的(de)題材或公司,內容羅(luo)列(lie)和篇幅長短(duan),與(yu)后續(xu)漲跌無關,亦(yi)均非進行(xing)推(tui)薦,僅作研(yan)究輔助。投(tou)資者應自(zi)主決策,注意風(feng)險(xian)。 一、市場熱(re)點 光(guang)刻機(ji)(ji)(ji):國(guo)產(chan)化持續(xu)推(tui)進 ◇驅動:據(ju) WccFTech 報道,中國(guo)自(zi)主研(yan)發的(de) EUV 光(guang)刻機(ji)(ji)(ji)預計將(jiang)在第三(san)季度邁入試生產(chan)階段(duan),其中使用到嶄新的(de)激光(guang)誘導放電等離子(zi)體(ti)(LDP)核心技(ji)術(shu)。2025年7月25日盤中網傳紀(ji)要(未證實),根據(ju)行(xing)業調研(yan)信(xin)息,目(mu)前國(guo)產(chan)量產(chan)出貨大部分為i線700nm光(guang)刻機(ji)(ji)(ji),近期芯上(shang)微裝前道500nm i線光(guang)刻機(ji)(ji)(ji)已發貨至核心頭部fab廠客戶端進行(xing)